WAFER COOLING APPARATUS FOR SEMICONDUCTOR PVD SYSTEM
摘要
<p>본 고안은 챔버의 내부로 가스가 급격히 공급되는 것을 방지할 수 있도록 한 반도체 피브이디장비의 웨이퍼 냉각장치에 관한 것으로, 가스공급라인(15)을 챔버(11)의 하측으로 연결하고, 그 가스공급라인(15)에 연결되도록 챔버(11)의 내측하면에 디퓨져(16)를 설치하여, 챔버(11)의 내측으로 공급되는 가스가 하측에서 균일하게 공급되도록 한 반도체 피브이디장비의 웨이퍼 냉각장치에 관한 것이다.</p>
