| 主权项 |
1.一种用来排列及固定氧化物阴极之治具,其特征在于:将包括在上面形成厚膜印刷层之基体金属之复数个氧化物阴极在该基体金属上面朝上之状态整列固定成保持既定间隔。2.如申请专利范围第1项之用来排列及固定氧化物阴极之治具,其中固定成该基体金属之该上面形成同一平面。3.如申请专利范围第2项之用来排列及固定氧化物阴极之治具,其中该用来排列及固定氧化物阴极之治具如固定该氧化物阴极之底部般构成。4.如申请专利范围第3项之用来排列及固定氧化物阴极之治具,其中该用来排列及固定氧化物阴极之治具还如固定各该氧化物阴极之侧面般构成。5.如申请专利范围第1项之用来排列及固定氧化物阴极之治具,其中该氧化物阴极系包括利用厚膜印刷法在上面形成电子放射物质层之基体金属之复数个氧化物阴极。6.如申请专利范围第1项之用来排列及固定氧化物阴极之治具,其中该氧化物阴极系包括利用厚膜印刷法在上面形成碳酸盐层之基体金属之复数个氧化物阴极。7.如申请专利范围第6项之用来排列及固定氧化物阴极之治具,其中在配置了氧化物阴极之情况整列固定成使基体金属之上面一致变成同一高度。8.如申请专利范围第1项之用来排列及固定氧化物阴极之治具,其中氧化物阴极系包括将基体金属固定于一端面之圆筒形之套筒、及将包括套筒之另一端之外侧面之一部分包围成该基体金属突出之状态并利用带吊该套筒后固定之眼孔之吊型氧化物阴极;且该治具包括:上部固定治具,设置成相当于该眼孔之直径之孔保持既定间隔的贯穿平板并如支撑固定该眼孔之外侧面般构成之平板构造;以及下部固定治具,包括配置在相当于该上部固定治具之该孔之位置、直径比该眼孔小、直径比该套筒大之由圆柱体构成之套筒底面支撑部,并支撑固定该套筒之底面之平板构造。9.如申请专利范围第8项之用来排列及固定氧化物阴极之治具,其中氧化物阴极系包括将基体金属固定于一端面之圆筒形之套筒、及将包括套筒之另一端之外侧面之一部分包围成该基体金属突出之状态并利用带吊该套筒后固定之眼孔之氧化物阴极;且该治具包括:上部固定治具,设置成相当于该眼孔之直径之孔保持既定间隔的贯穿平板并如支撑固定该眼孔之外侧面般构成之平板构造;以及下部固定治具,如支撑基体金属底面及套筒内面般构成,并由如和该基体金属底面接触之端面之直径比另一面小般构成之圆柱体构成。10.如申请专利范围第1项之用来排列及固定氧化物阴极之治具,其中氧化物阴极由基体金属和该基体金属固定于一端面之圆筒形套筒构成;且该治具包括:上部固定治具,设置成相当于该套筒之最大径之孔保持既定间隔的贯穿平板并支撑固定该套筒之外侧面般构成之平板构造;以及下部固定治具,在相当于该上部固定治具之该孔之位置配置圆柱体,并支撑固定该基体金属底面及该套筒内面之平板构造。11.如申请专利范围第8项之用来排列及固定氧化物阴极之治具,其中下部固定治具所含套筒底面支撑部或柱状体在和套筒底面或基体金属底面接触之位置具有吸引孔。12.如申请专利范围第8项之用来排列及固定氧化物阴极之治具,其中可设于该上部固定治具之切削孔在配置了氧化物阴极之情况如位于基体金属之附近之部分之直径变成比其他部分之直径小般向该孔中心突出形成,构成套筒外侧面支撑部。13.如申请专利范围第8项之用来排列及固定氧化物阴极之治具,其中该上部固定治具之上面在配置了氧化物阴极之情况形成为高度和基体金属之上面相同。14.如申请专利范围第12项之用来排列及固定氧化物阴极之治具,其中在相当于套筒外侧面支撑部之端部之上部固定治具之上面形成凹部或向该套筒外侧面支撑部端部形成向下倾斜之锥部。15.如申请专利范围第14项之用来排列及固定氧化物阴极之治具,其中该凹部或锥部之大小形成为利用厚膜印刷所形成之膏不会利用毛细管现象附着于该套筒之侧面之程度。16.如申请专利范围第12项之用来排列及固定氧化物阴极之治具,其中套筒外侧面支撑部形成为和在配置了氧化物阴极之情况之套筒之间设置微小间隙。17.如申请专利范围第16项之用来排列及固定氧化物阴极之治具,其中该微小间隙之大小形成为利用厚膜印刷所形成之膏不会利用毛细管现象附着于该套筒之侧面之程度。18.一种氧化物阴极之制造方法,其特征在于包括:使用如申请专利范围第8项之用来排列及固定氧化物阴极之治具整列配置成复数个氧化物阴极之基体金属上面露出后,在一次作业利用网印在基体金属上面印刷碳酸盐膏之制程;包括乾燥以及烘烤之制程,而形成将碳酸盐层予以形成而构成之氧化物阴极。图式简单说明:第一图(a)、(b)系一般之吊型氧化物阴极之构造之立体图。第二图系一般之氧化物阴极之构造之立体图。第三图系本发明之实施例1之用来排列及固定氧化物阴极之治具之基本构造之剖面概略图。第四图系本发明之用来排列及固定氧化物阴极之治具之整体之概略图。第五图系使用本发明之该固定治具实施网印之情况之剖面概略图。第六图系本发明之实施例2之用来排列及固定氧化物阴极之治具之基本构造之剖面概略图。第七图系本发明之实施例3之用来排列及固定氧化物阴极之治具之基本构造之剖面概略图。第八图系本发明之实施例4之用来排列及固定氧化物阴极之治具之基本构造之剖面概略图。第九图(a)、(b)系本发明之实施例5之用来排列及固定氧化物阴极之治具之基本构造之剖面概略图。第十图系本发明之实施例6之用来排列及固定氧化物阴极之治具之基本构造之剖面概略图。第十一图(a)-第十一图(c)系本发明之实施例7之用来排列及固定氧化物阴极之治具之基本构造之剖面概略图。第十二图(a)-第十二图(c)系本发明之实施例8之用来排列及固定氧化物阴极之治具之基本构造之剖面概略图。第十三图系本发明之实施例9之用来排列及固定氧化物阴极之治具之基本构造之剖面概略图。 |
