| 主权项 |
1.一种制造矫正屈光异常状态用的光学透镜之方法,该透镜具有一前曲线及一底曲线,该方法包括步骤:a)将可聚合性光学材料导入光学透镜用的模具内;及b)使该模具内的可聚合性材料暴露于电磁波中,其中该电磁波形成干涉条纹图案,同时将该可聚合性材料聚合,藉以使该图案记录在该透镜中而形成一种体积光栅结构,藉以形成一种体积全息元件,其中当置于眼睛之上、之中或之前时,该图案对进入该前曲线的光作绕射而矫正该屈光不正状态。2.如申请专利范围第1项之方法,其中该方法进一步包括下列步骤:提供一外加层可聚合性光学材料及使该可聚合性材料暴露于电磁波中,如此该透镜形成一组合的体积全息元件。3.如申请专利范围第1项之方法,其中该电磁波系电射光束。4.如申请专利范围第3项之方法,其中该雷射方法系U.V.雷射光束。5.如申请专利范围第1项之方法,其中该方法适用于制造眼科透镜。6.一种由申请专利范围第1项之方法所制造的透镜。7.一种用于制造具有矫正倍率的光学透镜之弹性方法,包括步骤:a)将可聚合性光学材料导入光学透镜用的模具内;及b)使该模具内的该可聚合性材料暴露于电磁波图案中,该电磁波将该光学材料聚合且该图案在光学材料聚合时给予该眼科透镜一种体积光栅结构,藉以形成一种体积全息元件,其中当该光学透镜置于哺乳动物眼睛之上、之中或之前时,该体积光栅结构系适合于提供该光学透镜的该矫正倍率。8.如申请专利范围第7项之方法,其中该方法进一步包括下列步骤:提供一外加层可聚合性光学材料及使该可聚合性材料暴露于电磁波中,如此该透镜形成一组合的体积全息元件。9.如申请专利范围第7项之方法,其中该电磁波系电射光束。10.如申请专利范围第9项之方法,其中该雷射方法系U.V.雷射光束。11.如申请专利范围第7项之方法,其中该方法适用于制造眼科透镜。12.一种由申请专利范围第7项之方法所制造的透镜。13.一种制造用于矫正屈光不正状态的光学透镜之方法,该透镜具有一前曲线及一底曲线,该方法包括步骤:a)使全息记录媒质暴露于电磁波中,其中该电磁波形成体积光栅结构的干涉条纹图案,且该图案系设计用于将进入该前曲线的光作绕射以便至少部分地矫正该屈光不正状态,b)对曝光后的全息记录媒质作显影,及c)将显影后的记录媒质包封于一种生物可相容性光学材料中,藉以形成该光学透镜。14.如申请专利范围第13项之方法,其中该方法进一步包括步骤:提供一曝光过的全息记录媒质之外加层,如此该记录媒质形成一组合的体积全息元件。15.如申请专利范围第13项之方法,其中该电磁波系雷射光束。16.如申请专利范围第15项之方法,其中该雷射方法系U.V.雷射光束。17.如申请专利范围第13项之方法,其中该方法适用于制造眼科透镜。18.一种由申请专利范围第13项之方法所制造的透镜。19.一种制造矫正眼睛屈光不正状态用的透镜之方法,该透镜具有一前曲线及一底曲线,该方法包括步骤:a)将可聚合性光学材料导入光学透镜用的模具内;及b)使该模具内的该可聚合性材料暴露于电磁波中,其中该电磁波形成干涉条纹图案,同时聚合该可聚合性材料,藉以在该透镜中而形成一种体积光栅结构,其中该图案对进入该透镜的光作调整以便矫正该屈光不正状态。20.如申请专利范围第19项之方法,其中该体积光栅结构形成一种体积全息元件,且该方法进一步包括下列步骤:提供一外加层可聚合性光学材料及使该可聚合性材料暴露于电磁波中,如此该透镜形成一组合的体积全息元件。21.如申请专利范围第19项之方法,其中该电磁波系雷射光束。22.如申请专利范围第21项之方法,其中该雷射方法系U.V.雷射光束。23.如申请专利范围第19项之方法,其中该方法适用于制造眼科透镜。24.一种由申请专利范围第19项之方法所制造的透镜。图式简单说明:第一图显示本发明之矫正性眼科透镜。第二图显示本发明之体积全息光学元件的制法。第三图-第三图B显示一种组合的全息光学元件。 |
