Photoresist remover composition and process using the same,申请号GB20000022120-传众专利搜索

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发明名称	Photoresist remover composition and process using the same
摘要
申请公布号	GB2354086(A9)	申请公布日期	2001.03.29
申请号	GB20000022120	申请日期	2000.09.08
申请人	TOKYO OHKA KOGYO CO LTD;NEC CORPORATION	发明人	HIDEMITSU AOKI;KENICHI NAKABEPPU;MASAHITO TANABE;KAZUMASA WAKIYA;MASAKAZU KOBAYASHI
分类号	H01L21/027;G03F7/42;H01L21/02;(IPC1-7):G03F7/42	主分类号	H01L21/027
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