| 发明名称 | 一种合成的层状二氧化硅分子筛 | ||
| 摘要 | 一种合成的层状二氧化硅分子筛,其原粉具有下述的X－射线粉未衍射特征:d值(A),衍射相对强度(I/I<SUB>O</SUB>%)；20.3±0.50,100；9.93±0.20,47±30;7.19±0.10,32±30；6.35±0.10,38±30;4.97±0.10,32±20;4.53±0.10,100;4.00±0.10,44±20;3.22±0.10,40±20;3.18±0.10,33±20;本发明具有与以往分子筛不同的结构,且可以通过或不通过金属离子修饰用作催化剂。 | ||
| 申请公布号 | CN1288857A | 申请公布日期 | 2001.03.28 |
| 申请号 | CN99120816.1 | 申请日期 | 1999.09.22 |
| 申请人 | 中国科学院大连化学物理研究所 | 发明人 | 程谟杰;包信和;谭大力;林励吾 |
| 分类号 | C01B33/113 | 主分类号 | C01B33/113 |
| 代理机构 | 中国科学院沈阳专利事务所 | 代理人 | 张晨 |
| 主权项 | 1.一种合成的层状二氧化硅分子筛，其原粉具有下述的X-射线 粉未衍射特征： d值()衍射相对强度(I/I<sub>0</sub>％) 20.3±0.50100 9.93±0.2047±30 7.19±0.1032±30 6.35±0.1038±30 4.97±0.1032±20 4.53±0.10100 4.00±0.1044±20 3.22±0.1040±20 3.18±0.1033±20 活化或离子交换后具有下述的X-射线粉未衍射特征 d值()衍射相对强度(I/I<sub>0</sub>％) 33.7±3.037±20 17.5±1.5040±20 12.5±0.1055±20 11.1±0.1025±20 8.79±0.1045±30 6.23±0.1050±30 3.91±0.0535±30 3.41±0.05100 3.19±0.0530±20 | ||
| 地址 | 116023辽宁省大连市中山路457号 | ||