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发明名称 METHOD AND APPARATUS FOR DETERMINING PROCESSING CHAMBER CLEANING OR WAFER ETCHING ENDPOINT
摘要
申请公布号 EP1086353(A1) 申请公布日期 2001.03.28
申请号 EP19990928616 申请日期 1999.06.11
申请人 ON-LINE TECHNOLOGIES, INC. 发明人 SPARTZ, MARTIN, L.;BONANNO, ANTHONY, S.;ROSENTHAL, PETER, A.;RICHTER, MATTHEW
分类号 G01N21/77;G01B9/02;G01N21/35;G01N33/00;H01L21/302;H01L21/3065;(IPC1-7):G01B9/02 主分类号 G01N21/77
代理机构 代理人
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