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发明名称 A METHOD AND APPARATUS FOR FORMING A TI DOPED TA2O5 LAYER
摘要
申请公布号 EP1086259(A1) 申请公布日期 2001.03.28
申请号 EP19990930229 申请日期 1999.06.11
申请人 APPLIED MATERIALS, INC. 发明人 NARWANKAR, PRAVIN, K.;SAHIN, TURGUT;URDAHL, RANDALL, S.;VELAGA, ANKINEEDU;LIU, PATRICIA
分类号 C23C16/40;H01L21/316;(IPC1-7):C23C16/40 主分类号 C23C16/40
代理机构 代理人
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