发明名称 | 硬碳膜沉积装置 | ||
摘要 | 本实用新型涉及一种硬碳膜沉积装置。由真空室、泵抽机组等组成,其真空室具有封帽,安装在机架上,与泵抽机组相连,在其封帽上设有放气阀和进气截止阀,上电极在真空室里接地,在真空室底部安装一可水冷的、接RF射频功率电源、由电机驱动的下电极;升降机构与封帽固连,磁力线圈加在真空室外面,泵抽机组中的涡轮分子泵加装机械泵,通过闸板阀与真空室相连,在通向真空室的管道上分别设有节流阀、旁抽阀。它无油、成膜均匀性能好、操作简单。 | ||
申请公布号 | CN2425091Y | 申请公布日期 | 2001.03.28 |
申请号 | CN00210613.2 | 申请日期 | 2000.01.19 |
申请人 | 中国科学院沈阳科学仪器研制中心 | 发明人 | 李求恕;冯彬;阎佐健;鲁向群;孙荣昌;金振奎;曾志群;潘福全;郭宝英;石长友;谭亮 |
分类号 | C23C14/06 | 主分类号 | C23C14/06 |
代理机构 | 中国科学院沈阳专利事务所 | 代理人 | 朱光林;周秀梅 |
主权项 | 1.一种硬碳膜沉积装置,其特征在于:由真空室(1)、泵抽机组(2)、升降机构(3)、磁力线圈(4)和机架(5)组成,其中具有封帽的真空室(1)安装在机架(5)上,下面与泵抽机组(2)相连,所述升降机构(3)顶部与真空室(1)封帽固连,磁力线圈(4)加在真空室(1)外面;所述真空室(1)包括上、下电极(11、12)、放气阀(13)和进气截止阀(14),其中在所述真空室(1)的封帽上分别设有放气阀(13)和与质量流量计MFC连接的进气截止阀(14),上电极(11)设在真空室(1)里,接地,在真空室(1)底部安装一可水冷的、接RF射频功率电源、由电机驱动的下电极(12),其加在真空室(1)外面的磁力线圈(4)高度位于上、下电极(11、12)之间;所述泵抽机组(2)包括涡轮分子泵(21)、机械泵(22),其中所述涡轮分子泵(21)通过闸板阀(25)与真空室(1)相连,在通向真空室(1)的管道上分别设有节流阀(23)、旁抽阀(24),带有电磁阀的涡轮分子泵(21)与机械泵(22)相连。 | ||
地址 | 110003辽宁省沈阳市和平区三好街96号 |