ADJUSTMENT OF DEPOSITION UNIFORMITY IN AN INDUCTIVELY COUPLED PLASMA SOURCE,申请号KR1020007002737-传众专利搜索

发明名称	ADJUSTMENT OF DEPOSITION UNIFORMITY IN AN INDUCTIVELY COUPLED PLASMA SOURCE
摘要
申请公布号	KR20010024008(A)	申请公布日期	2001.03.26
申请号	KR1020007002737	申请日期	2000.03.15
申请人		发明人
分类号	C23C14/38	主分类号	C23C14/38
代理机构		代理人
主权项
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