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发明名称 ELECTROPLATING SYSTEM HAVING AUXILIARY ELECTRODE EXTERIOR TO MAIN REACTOR CHAMBER FOR CONTACT CLEANING OPERATIONS
摘要
申请公布号 KR20010024368(A) 申请公布日期 2001.03.26
申请号 KR1020007003482 申请日期 2000.03.30
申请人 发明人
分类号 H01L21/18 主分类号 H01L21/18
代理机构 代理人
主权项
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