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发明名称 GAS DISTRIBUTION SYSTEM FOR A PROCESS REACTOR AND METHOD FOR PROCESSING SEMICONDUCTOR SUBSTRATES
摘要
申请公布号 KR20010022888(A) 申请公布日期 2001.03.26
申请号 KR1020007001492 申请日期 2000.02.14
申请人 发明人
分类号 C23C16/40 主分类号 C23C16/40
代理机构 代理人
主权项
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