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<P>Un masque à déphasage est formé en déposant sur un substrat transparent (70) un matériau de déphasage contenant du chrome (Cr), de l'aluminium (Al), de l'oxygène (O), et de l'azote (N). La transmittivité d'une couche de déphasage (72) du masque à déphasage, qui est une couche en CrAlON, est accrue, et la phase de la lumière d'exposition est déphasée de 180degre à une épaisseur prédéterminée, ce qui fait qu'un motif de photoréserve mince peut être formé. Egalement, la transmittivité de la couche de déphasage (72) vis-à-vis de la lumière d'inspection, qui a une longueur d'onde plus longue que celle de la lumière d'exposition, est relativement faible, ce qui permet une inspection précise du masque. Le masque à déphasage peut être utile dans la photolithographie utilisant une courte longueur d'onde de lumière d'exposition, et dans un dispositif d'inspection utilisant une source de lumière d'inspection ayant une longueur d'onde plus longue que celle de la lumière d'exposition.</P> |
