发明名称 晶圆研磨装置
摘要 本发明揭示之研磨装置能解决金属离子的溶析,及改进研磨的精确度;在研磨机中,研磨板52具有一研磨面50可用以研磨晶元20;一把持部10包含:一位于研磨面50上方的头部12;设置于头部12与研磨面50间的把持板16,其具有一把持面17能把持晶元20;及一固定于把持板16与头部12间的伸缩器24,其可令把持板16对着头部12接近远离或倾斜,伸缩器24形成一压力室26;押压机构28藉压力室26的压力以把持板16押压晶元20于研磨面50;伸缩器24系以无缝方式切割一块塑胶而制成者。
申请公布号 TW426586 申请公布日期 2001.03.21
申请号 TW089102490 申请日期 2000.02.15
申请人 不二越机械工业股份有限公司 发明人 中村 由夫;藤井 宽二
分类号 B24B7/24;B24B37/04;H01L21/304 主分类号 B24B7/24
代理机构 代理人 郑再钦 台北巿民生东路三段二十一号十楼
主权项 1.一种晶圆研磨装置,包括: 一具有一上方面部的研磨板52,该上方面部为可研 磨晶圆20的研磨面50; 一把持部10包含: 一头部12以一预定间距位于该研磨面50上方; 一把持板16设置于该头部12与该研磨面50之间,其具 有一下方面部为一把持面17能把持该晶圆20;及 一伸缩器24固定于该把持板16与该头部12之间,可令 该把持板16对着头部12的下方面部接近远离及倾斜 ,该伸缩器24形成一压力室26; 押压晶圆20于该研磨面50上的机构,系藉该压力室26 的压力化以该把持板16施压;及 一驱动机构用以对着被该把持部10把持的该晶圆20 相对移动该研磨板52藉此以该研磨面50研磨该晶圆 20, 其中该伸缩器24系以无接缝方式切割一块塑胶制 成。2.如申请专利范围第1项之研磨装置,其中所述 塑胶为超高分子量聚乙烯。3.如申请专利范围第1 项之研磨装置,其中所述头部12具有一凹下部14开 口于其下方面部,而该把持板16设置于该头部12的 该凹下部14,藉此该把持板16的外周面16a接触于该 凹下部14之内周面14a,如此来限制该把持板16对该 头部12的摆动。4.如申请专利范围第1项之研磨装 置,其中所述该把持板16的一个外周面16a与该凹下 部14的内周面14a为一凸面。5.如申请专利范围第1 项之研磨装置,更包括: 用以减小该压力室26内压力30的机构; 一形成于该头部12的该凹下部14内面的第一锥形部 32;及 一形成于该把持板16内的第二锥形部34,该第二锥 形部34在该压力室26内减压时被牵引而贴合于该第 一锥形部32, 其中该第一与该第二锥形部之一为雄锥形部,另一 为雌锥形部。6.如申请专利范围第1项之研磨装置, 其中所述把持板16的把持面17能经减压吸取并把持 该晶圆20。7.如申请专利范围第1项之研磨装置,其 中所述把持板16的把持面17能藉水把持该晶圆20。 图式简单说明: 第一图为本发明晶元研磨装置的部分剖面图; 第二图为第一图所示研磨装置主要部分的剖面图; 第三图为研磨装置的侧面图; 第四图为传统研磨装置的剖面图;及 第五图为传统研磨装置的部分剖面图。
地址 日本