| 发明名称 | 正型光致抗蚀剂组合物 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种感光速度及残膜率优秀,恶臭的发生量少,从而能够改善作业环境的正型光致抗蚀剂组合物,其包括:用以形成光致抗蚀剂层的高分子树脂、由于曝光而使光致抗蚀剂层的溶解度发生改变的感光性化合物以及作为溶剂的3－甲氧丁基乙酯、2－庚酮和4－丁内酯。 | ||
| 申请公布号 | CN1288178A | 申请公布日期 | 2001.03.21 |
| 申请号 | CN00126260.2 | 申请日期 | 2000.08.30 |
| 申请人 | 三星电子株式会社;东友半导体株式会社 | 发明人 | 周振豪;李有京;朴弘植;罗允静;金玑洙;姜圣哲;康升镇 |
| 分类号 | G03F7/008 | 主分类号 | G03F7/008 |
| 代理机构 | 柳沈知识产权律师事务所 | 代理人 | 张平元 |
| 主权项 | 权利要求书1．一种正型光致抗蚀剂组合物，其包括：用以形成光致抗蚀剂层的高分子树脂；由于曝光而使光致抗蚀剂层的溶解度发生改变的感光性化合物；及作为溶剂的3-甲氧丁基乙酯、2-庚酮及4-丁内酯。 | ||
| 地址 | 韩国京畿道 | ||