发明名称 Inorganic-Containing Photosensitive Resin Composition and Method for Forming Inorganic Pattern
摘要 <p>(A) 감광성 중합체, (B) 가수분해 중합성 유기 금속 화합물 또는 그의 축합물 및 (C) 관능기를 가지는 무기 충전재로 구성된 무기질 함유 감광성 수지 조성물을 기재에 도포하고, 노광 및 현상하여 패턴을 형성한 후, 소성하여 무기 패턴을 형성한다. (A) 감광성 중합체는 올리고머 또는 중합체 및 감광제로 구성할 수 있으며, (B) 가수분해 중합성 유기 금속 화합물은 감광성 기를 가질 수도 있다. 무기 충전재는 평균 입경 2 내지 100 nm의 단분산된 콜로이드성 실리카일 수도 있다. 각 성분의 비율은 고형분으로 환산하여 (A) 1 중량부에 대해서 (B) 1 내지 25 중량부 및 (C) 1 내지 20 중량부 정도이다. 상기 수지 조성물을 사용함으로써 무기 성분의 함유량이 많아도 높은 감도로 해상도가 뛰어난 무기 패턴을 형성할 수 있다.</p>
申请公布号 KR20000075988(A) 申请公布日期 2000.12.26
申请号 KR19997008074 申请日期 1999.09.06
申请人 null, null 发明人 하나바따,마꼬또;야스다,도꾸겐
分类号 G03F7/027;G03F7/00;G03F7/004;G03F7/075;H01L21/027 主分类号 G03F7/027
代理机构 代理人
主权项
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