Composto, processos de estabilização de um material que está sujeito a degradação por radiação actìnica, e de proteção de um substrato contra a degradação por radiação actìnica, composição de revestimento adequada para a formação de uma pelìcula estabilizada contra a degradação por radiação actìnica, composição de estabilização da radiação actìnica, material fotográfico, e, composição cosmética

摘要

"COMPOSTO, PROCESSOS DE ESTABILIZAçãO DE UM MATERIAL QUE ESTá SUJEITO A DEGRADAçãO POR RADIAçãO ACTìNICA, E DE PROTEçãO DE UM SUBSTRATO CONTRA A DEGRADAçãO POR RADIAçãO ACTìNICA, COMPOSIçãO DE REVESTIMETNO ADEQUADA PARA A FORMAçãO DE UMA PELìCULA ESTABILIZADA CONTRA A DEGRADAçãO POR RADIAçãO ACTìNICA, COMPOSIçãO DE ESTABILIZAçãO DA RADIAçãO ACTìNICA, MATERIAL FOTOGRáFICO, E, COMPOSIçãO COSMéTICA". Esta invenção diz respeito de uma forma geral a pirimidinas e triazinas substituídas por fenila para-terciária alquila e o seu uso na proteção contra a degradação por forças ambientais, inclusive da luz ultravioleta, radiação actínica, oxidação, umidade, poluentes atmosféricos e combinações destes. A nova classe de pirimidinas e triazinas substituídas por fenila para-terciária alquila inclui dois grupos de fenila alquilada terciária, e um grupo de resorcinol ou resorcinol substituído ligados ao anel de triazina ou pirimidina. Estes materiais podem, sob as circunstânicas apropriadas, ser unidas a formulações compreendendo revestimentos, polímeros, resinas, compostos orgânicos e outros através da reação da funcionalidade vinculável com os materiais da formulação. Um processo para estabilizar um material mediante a incorporação de tais pirimidinas e triazinas substituídas por fenila para-terciária alquila é também apresentado.