发明名称 HIGHLY FILLED SiO2 DISPERSION, METHODS FOR THE PRODUCTION THEREOF AND ITS USE
摘要 Die Erfindung betrifft hochgefüllte SiO2-Dispersionen, Verfahren zu ihrer Herstellung sowie Verfahren um aus der Dispersion poröse, amorphe SiO2-Formkörper mit extrem hohen Füllgraden herzustellen. Bei der erfindungsgemässen Dispersion handelt es sich um eine homogene, sehr gut giessfähige Dispersion von amorphen, SiO2-Partikeln in einem Dispersionsmittel, die dadurch gekennzeichnet ist, dass sie einen Füllgrad von mindestens 80 Gew.-% an amorphen SiO2-Partikeln aufweist und die amorphen SiO2-Partikel eine bimodale Korngrössenverteilung haben.
申请公布号 WO0117902(A1) 申请公布日期 2001.03.15
申请号 WO2000EP08752 申请日期 2000.09.07
申请人 WACKER-CHEMIE GMBH;SCHWERTFEGER, FRITZ;WEIS, JOHANN;RITTER, PETER;MOLTER, ACHIM;SCHWEREN, WOLFGANG;FREY, VOLKER;SCHERM, HANS-PETER 发明人 SCHWERTFEGER, FRITZ;WEIS, JOHANN;RITTER, PETER;MOLTER, ACHIM;SCHWEREN, WOLFGANG;FREY, VOLKER;SCHERM, HANS-PETER
分类号 C03B20/00;C01B33/12;C01B33/14;C01B33/141;C03B19/06;C03B19/12;C04B35/14;C04B35/622;C04B35/626;C04B38/00;(IPC1-7):C01B33/141 主分类号 C03B20/00
代理机构 代理人
主权项
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