发明名称 Silicium enthaltendes Polymer, Verfahren zu seiner Herstellung, dieses verwendende Resistzusammensetzung, Musterbildungsverfahren und Verfahren zur Herstellung einer elektronischen Anordnung
摘要 Silicium enthaltendes Polymer, welches einen tetrafunktionellen Siloxan-Teil als Grundgerüst aufweist, und einen Carbonsäuregruppen enthaltenden Triorganosiloxan-Teil und einen Carbonsäure-Derivatgruppen enthaltenden Triorganosiloxan-Teil in einem spezifischen Verhältnis enthält. Es kann vorteilhaft als negatives nicht-chemisches Verstärkungsresistpolymer oder als positives chemisches Verstärkungsresistpolymer verwendet werden.
申请公布号 DE10018852(A1) 申请公布日期 2001.03.15
申请号 DE20001018852 申请日期 2000.04.17
申请人 FUJITSU LTD., KAWASAKI 发明人 KOZAWA, MIWA;WATANABE, KEIJI;YANO, EI
分类号 C08G77/02;C08G77/14;C08K5/00;C08L83/04;C09D183/02;G03F7/004;G03F7/038;G03F7/039;G03F7/075;G03F7/26;G03F7/36;H01C7/00;H01L21/027;H01L21/3213;(IPC1-7):C08G77/06;B32B15/08 主分类号 C08G77/02
代理机构 代理人
主权项
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