发明名称 |
Silicium enthaltendes Polymer, Verfahren zu seiner Herstellung, dieses verwendende Resistzusammensetzung, Musterbildungsverfahren und Verfahren zur Herstellung einer elektronischen Anordnung |
摘要 |
Silicium enthaltendes Polymer, welches einen tetrafunktionellen Siloxan-Teil als Grundgerüst aufweist, und einen Carbonsäuregruppen enthaltenden Triorganosiloxan-Teil und einen Carbonsäure-Derivatgruppen enthaltenden Triorganosiloxan-Teil in einem spezifischen Verhältnis enthält. Es kann vorteilhaft als negatives nicht-chemisches Verstärkungsresistpolymer oder als positives chemisches Verstärkungsresistpolymer verwendet werden.
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申请公布号 |
DE10018852(A1) |
申请公布日期 |
2001.03.15 |
申请号 |
DE20001018852 |
申请日期 |
2000.04.17 |
申请人 |
FUJITSU LTD., KAWASAKI |
发明人 |
KOZAWA, MIWA;WATANABE, KEIJI;YANO, EI |
分类号 |
C08G77/02;C08G77/14;C08K5/00;C08L83/04;C09D183/02;G03F7/004;G03F7/038;G03F7/039;G03F7/075;G03F7/26;G03F7/36;H01C7/00;H01L21/027;H01L21/3213;(IPC1-7):C08G77/06;B32B15/08 |
主分类号 |
C08G77/02 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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