发明名称 WAFER HOLDER
摘要 <p>Une tranche (22) est placée sur la surface d'un support (23) qui est maintenu horizontalement dans une pluralité de gorges (14) formées dans un four pour traitement thermique, Le support présente la forme d'un disque sans entailles et comporte des saillies annulaires (24) partant de son centre et orientées vers le haut. La tranche est maintenue en contact avec les parties supérieures des saillies du support. La distance maximum entre deux saillies diamétralement opposées est comprise entre 0,5D et 0,98D (D étant le diamètre de la tranche) de sorte que les saillies ne peuvent pas entrer en contact avec la périphérie de la tranche. Le support est exempt de voilage afin que des défauts par glissement n'apparaissent pas sur la tranche. Ce support maintient la tranche quelle qu'elle soit exactement en place, indépendamment de la taille de la tranche. Il facilite le chargement et le déchargement des tranches.</p>
申请公布号 WO2001018856(P1) 申请公布日期 2001.03.15
申请号 JP2000005818 申请日期 2000.08.29
申请人 发明人
分类号 主分类号
代理机构 代理人
主权项
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