| 摘要 |
<p>본 발명은 펌핑 및 배기라인내의 파우더 생성 방지장치에 관한 것으로, 메인장비(10)와 진공펌프(20)사이를 연결하는 펌핑라인중, 메인장비(10)에 인접한 펌핑라인(40)내에 제 1 가열수단(50)이 설치되고, 진공펌프(20)와 스크러버(30)사이에 연결된 펌프 배기라인중, 진공펌프(20)와 인접한 배기라인(60)내에 제 2 가열수단(70)이 설치되고, 이러한 가열수단은 콘트롤러(100)에 의해 작동이 제어된다. 진공펌프(20)에 근접한 펌핑라인(40)에는 제 1 온도검출센서(80)가 설치되어 펌핑라인(40)내의 가스온도를 감지하는 반면, 스크러버(30)에 인접한 펌프 배기라인(60)내에는 제 2 온도 검출센서(90)가 설치되어, 검출된 각각의 온도신호를 콘트롤러(100)에 전달한다. 제 1 및 제 2 가열수단(50)(70)은 전원 케이블(2)에 연결된 전열 코일로 구성된다. 이와 같이 구성된 본 발명은 라인내에 가열수단을 설치한 직접가열방식을 채용함으로서, 펌핑 및 배기라인내에 파우더가 생성되는 것을 방지하며, 파우더 생성을 방지하므로서 펌프 및 스크러버의 트립이 방지될 뿐만 아니라, 펌프 분해검사(overhaul)의 주기 및 배기라인의 PM 주기가 연장되며, 또한, 콘트롤러에 의해 가스의 성분에 따른 온도의 조절이 용이할 뿐만아니라, 가스의 온도변화와 전류의 변화를 확인할 수 있으므로, 반도체 제조 공정이 원할히 수행될 수 있는 효과가 있다.</p> |
