发明名称 单组分光成像液体阻焊剂及其制法
摘要 本发明属于印制电路板用涂覆材料领域,包括(重量百分数)复合型光反应性成膜树脂30~50%,丙烯酸酯交联剂及活性稀释剂15~30%,光敏引发剂2~6%,填料、颜料15~30%,助剂1~6%,溶剂10~20%。复合型光反应性成膜树脂是侧链含不饱和键和亲水基团树脂R1、主链含不饱和键树脂R2以及主链含不饱和键侧链含亲水基团树脂R3的树脂复合而成。其制法是在装有搅拌器的容器中,加入丙烯酸酯交联剂及活性稀释剂和溶剂,开动搅拌,加入光引发剂且全部溶解后再加入剩余组分,高速分散,使之混合,最终制成既经济又重现性好的本发明阻焊剂。$#!
申请公布号 CN1063269C 申请公布日期 2001.03.14
申请号 CN97120324.5 申请日期 1997.12.08
申请人 中国科学院感光化学研究所 发明人 王尔鉴;李妙贞;何勇
分类号 G03F7/027;H05K3/28 主分类号 G03F7/027
代理机构 上海华东专利事务所 代理人 李柏
主权项 1.一种单组分光成像液体阻焊剂,包括丙烯酸酯交联剂及稀释剂,光敏引发剂,填料、颜料,助剂,溶剂,其特征在于其组份及组份含量的重量百分数为:(1).复合型光反应性成膜树脂 30~50%;(2).丙烯酸酯交联剂及活性稀释剂 15~30%;(3).光敏引发剂 2~6%;(4).填料、颜料 15~30%;(5).助剂 1~6%;(6).溶剂 10~20%;其中:丙烯酸酯交联剂占丙烯酸酯交联剂及活性稀释剂总重量的40%~95%,活性稀释剂占5%~60%;复合型光反应性成膜树脂是侧链含不饱和键和亲水基团树脂R1、主链含不饱和键树脂R2以及主链含不饱和键侧链含亲水基团树脂R3之中的任意两种复合而成,并且所占的重量百分数分别为:R1-R2,其中R1为45%~55%,R2为45%~55%;或R2-R3,其中R2为45%~55%,R3为45%~55%;或R1-R3,其中R1为60%~70%,R3为30%~40%。
地址 100101北京市朝阳区大屯路甲3号内
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