发明名称 | 可形成均匀蚀刻液膜的装置 | ||
摘要 | 一种可形成均匀蚀刻液膜的装置,其配置于滚轮片式滚轮上,此滚轮片式滚轮支撑一双面板,滚轮下方放置多个第一蚀刻液喷嘴。此装置包括多个实心滚轮、数排第二蚀刻液喷嘴与数排喷气嘴。实心滚轮位于滚轮片式滚轮上方的同一平面上且彼此平行,相邻的实心滚轮间具有第一间隔与第二间隔,实心滚轮接触双面板,使得双面板上的蚀刻液膜可覆盖均匀。第二蚀刻液喷嘴配置于第一间隔的上方。喷气嘴配置于第二间隔上方。 | ||
申请公布号 | CN1287470A | 申请公布日期 | 2001.03.14 |
申请号 | CN99118488.2 | 申请日期 | 1999.09.03 |
申请人 | 欣兴电子股份有限公司 | 发明人 | 范智朋 |
分类号 | H05K3/06;B05B13/02 | 主分类号 | H05K3/06 |
代理机构 | 柳沈知识产权律师事务所 | 代理人 | 陶凤波 |
主权项 | 1.一种可形成均匀蚀刻液膜的装置,配置于多个滚轮片式滚轮上,这些滚轮片式滚轮位于同一平面而彼此平行并适于支撑一双面板,且该些滚轮片式滚轮下方放置有多个第一蚀刻液喷嘴,该装置包括:多个实心滚轮,位于该些滚轮片式滚轮上方的同一平面上而彼此平行,且每二相邻的该些实心滚轮间具有一间隔,该些间隔又区分为多个第一间隔与多个第二间隔,该些实心滚轮适于接触该双面板,使得该双面板上的一蚀刻液膜覆盖均匀;多排第二蚀刻液喷嘴,配置于该些第一间隔的上方,且与该些实心滚轮的轴向平行;以及多排喷气嘴,配置于该些第二间隔上方,且与该些实心滚轮的轴向平行。 | ||
地址 | 台湾省桃园县 |