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"PROCESSO E DISPOSITIVO DE ORIENTAçãO DE UM MìSSIL". A presente invenção diz respeito a um processo de orientação por meio de varredura laser de um míssil (M) em direção a um alvo (T), segundo o qual observa-se um campo (5), no qual o dito míssil (M) é suscetível de evoluir, para localizar este último no dito campo (5), bem como um dispositivo para a implementação do dito processo. De acordo com a invenção, no dito campo (5), determina-se uma zona (8) em volta da posição instantânea do dito míssil (M) assim localizado, e efetua-se a varredura laser unicamente na dita zona (8).
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