发明名称 相变记忆体元件以及其形成方法
摘要 本发明提供一种相变随机存取记忆体元件及其形成方法。在多种实施例中,上述相变随机存取记忆体元件包括形成在一个半导体基底上的一层下绝缘层、形成在下绝缘层上的一个相变材料图案与一个和相变材料图案接触之加热电极。而上述加热电极可由具有一正温度系数的材料形成,以使此种材料的电阻率以温度为函数增加。
申请公布号 TW200733352 申请公布日期 2007.09.01
申请号 TW095131976 申请日期 2006.08.30
申请人 三星电子股份有限公司 发明人 郑元哲;李世昊;朴哉炫;郑旭
分类号 H01L27/10(2006.01) 主分类号 H01L27/10(2006.01)
代理机构 代理人 詹铭文;萧锡清
主权项
地址 韩国