发明名称 包括一个或多个注入式双层电极之半导体记忆体装置
摘要 本发明提供了有助于形成其中包含具有一或多个注入式双层电极(100, 202, 308)的记忆体单元(300, 500, 600)的半导体记忆体装置之系统及方法。记忆体阵列通常包含一些位元单元,该等位元单元具有两个分离的组件,亦即,记忆体元件和例如二极体之选择元件。本发明藉由形成具有其中包含双层电极(100, 202, 308)的选择二极体之记忆体单元(300, 500, 600),而提高了记忆体装置的效率。提供了包含双层阴极(508)及(或)双层阳极(608)之记忆体单元(300, 500, 600),该等双层阴极及(或)双层阳极有助于将电荷注入到记忆体单元(300, 500, 600)的二极体层(204, 306, 406, 506, 606)之显着改善。被选择的记忆体单元(300, 500, 600)的二极体层(204, 306, 406, 506, 606)中之增加的电荷(例如,电子或电洞)密度导致改善的记忆体单元开关时间(switching time),并降低使记忆体单元(300, 500, 600)操作所需的电压,因而产生了一种更有效率的记忆体单元(300, 500, 600)。
申请公布号 TW200733349 申请公布日期 2007.09.01
申请号 TW095133425 申请日期 2006.09.11
申请人 史班逊股份有限公司 发明人 梭克利克 依枸;金斯伯夫;马登艾尔 艾瑞
分类号 H01L27/04(2006.01) 主分类号 H01L27/04(2006.01)
代理机构 代理人 洪武雄;陈昭诚
主权项
地址 美国