利用氟及氢之顺序式氧化物移除

摘要

一种用以从基板移除氧化物之方法，此方法包括：设置基板于处理室中以及执行顺序式氧化物移除处理，其中该基板具有形成于其上之氧化层。此顺序式氧化物移除处理，包括将于第一基板温度下之该基板曝露至含F2之第一蚀刻气体流，以从该基板部份地移除该氧化层；将该基板之温度从第一基板温度升高至第二基板温度；以及将于第二基板温度下之该基板曝露至含H2之第二蚀刻气体流，以进一步从该基板移除该氧化层。于一实施例中，在此连续氧化物移除处理之后，可于基板上形成一薄膜。