| 主权项 |
1.一种热处理装置,系于光蚀刻之烘烤工程使用之热处理装置;其特征为具有:具基板搬出入口俾将表面涂布有感光性光阻剂之基板予以搬进/搬出的处理室;设于上述处理室内的载置台;设于上述载置台,对上述载置台上之基板加热以进行上述光阻剂之烘烤处理的加热装置;通过上述载置台之贯通孔,顶接于上述基板之至少周缘部以使上述基板由上述载置台举起,使上述基板以非接触式近接支持于上述载置台的多数支持销;及令上述多数支持销于水平方向相对于上述载置台支持为可移动的支持装置。2.如申请专利范围第1项所述之装置,其中上述各支持销具有:销本体,及安装于上述销本体之具耐蚀性之销补助体;分别支持作为上述基板之液晶显示装置再矩形状基板之至少周缘部。3.如申请专利范围第2项所述之装置,其中前述销本体系由不锈钢构成。4.如申请专利范围第2项所述之装置,其中前述销补助体系由PEEK,氟橡胶及氟树脂而成之群中选出之材料构成。5.如申请专利范围第1项所述之装置,其中在设于前述放置台之前述贯穿孔之至少内周面形成有被覆膜。6.如申请专利范围第5项所述之装置,其中前述被覆膜系由氟树脂,及其烧结体而成之群中选出之材料构成。7.如申请专利范围第1项所述之装置,其中前述支持销,系具有可在支持前述支持销之支持构件之间滑动之脚构件。8.如申请专利范围第7项所述之装置,其中前述脚构件之宽度相对于前述支持销及前述脚构件之长度之比为0.2以上。9.如申请专利范围第1项所述之装置,其中前述放置台系在与前述基板接触之面上具有垫片构件。10.如申请专利范围第1项所述之装置,其中更具备使前述支持销昇降之销昇降装置。图式简单说明:第一图A,第一图B:表示先前之热处理装置之常温时及加热时之放置台与支持梢间之关系之概略图。第二图:适用本创作之热处理装置之LCD基板之涂布显处理系统之斜视图。第三图:表示本创作之热处理装置之一例之概略图。第四图:表示本创作之放置台及支持梢之分解斜视图。第五图:表示放置台及支持梢之要部扩大图。第六图:表示本创作之开闭器构件之斜视图。第七图A-第七图C:表示设于放置台之近接垫片形态之断面图。第八图A,第八图B:表示本创作之常温时及加热时之放置台与支持梢间之关系之概略图。 |
