发明名称 改良的暗图框消除
摘要 一种方法,根据一与图形图框之暗参考像素有关的补偿值,调整一暗图框的一部分,以获得一调整的暗图框部分,并继之从一相对应的图形图框部分消除该调整的暗图框部分。可利用该技艺,藉补偿暗电流杂讯,以改良该等影像侦测器的精确性,如该等用于数位照相机或视讯会议照相机中的影像侦测器。就大体而论,可引用该技艺于互补式金氧半导体(CMOS)的影像侦测器和任何需要暗图框消除的影像侦测器中。亦可连同影像侦测器和影像化系统的校正一起使用该等技艺。
申请公布号 TW425816 申请公布日期 2001.03.11
申请号 TW088108745 申请日期 1999.06.05
申请人 英特尔公司 发明人 柯任,可堤斯A.;柯农理,凯文M.;贝沃雷克,艾德华J.
分类号 H04N5/00 主分类号 H04N5/00
代理机构 代理人 陈长文 台北巿敦化北路二○一号七楼
主权项 1.一种方法,包括:根据一与图形图框之暗参考像素有关的补偿値,调整一暗图框至少一部分,以获得一调整的暗图框部分,已从该相同的影像侦测器中,获得该暗图框和该图形图框;以及从该图形图框一相对应的部分中,消除该调整的暗图框部分,以获得一校正的图形图框。2.如申请专利范围第1项之方法,其中该等补偿値,与该图形图框中该等暗参考像素的加总对该暗图框中相对应像素的加总之比率有关。3.如申请专利范围第1项之方法,其中该暗参考像素于该图形图框中形成至少一个像素行。4.如申请专利范围第1项之方法,其中该调整的步骤包括:根据该等暗参考像素有关的补偿値,调整该暗图框的多个部分,以获得多个调整的暗图框部分,且其中该消除的步骤包括:从该图形图框一相对应的多个部分中,消除该等多个调整的暗图框部分,以获得多个校正的部份。5.如申请专利范围第4项之方法,更进一步包括:移除该等多个校正部分间的任何接缝。6.如申请专利范围第1项之方法,更进一步包括:根据第二补偿値调整该暗图框,该等第二补偿値与用于获得该图形图框和该暗图框的整合时间有关,该暗图框的积分时间比该图行图框的积分时间长。7.如申请专利范围第1项之方法,更进一步包括:于获得该校正的图形图框之后,产生该影像侦测器的一个色彩校正矩阵。8.如申请专利范围第1项之方法,更进一步包括:侦测该校正的图形图框中无效的像素。9.一种方法,包括:根据一暗图框和多个个别的图形图框,产生多个调整的暗图框部分,根据该个别的图形图框其暗参考像素有关的补偿値,藉调整该暗图框的一部份,获得每一个调整的暗图框部分,已利用该相同的影像侦测器获得该等个别的图形图框和该暗图框;以及从该等多个个别的图形图框中,消除该等多个调整的暗图框部分,以获得多个校正的图形图框。10.一种影像器,包括:一个影像侦测器;利用一第二个缩放因素,量化该等和该等非DC子象限相关的Haar系数;以及逻辑电路,架构成根据一图形图框其暗参考像素有关的补偿値,调整一暗图框的至少一部分,以获得一调整的暗图框部分,已从该影像侦测器中获得该暗图框和该图形图框,并从该图形图框一相对应的部分中消除该调整的暗图框部分,以获得一校正的图形图框。11.如申请专利范围第10项之影像器,更进一步包括:用以将该校正的图形图框转移至一影像处理系统之装置。12.如申请专利范围第10项之影像器,更进一步包括:可移除非挥发性储存装置,用以将该校正的图形图框转移至一影像处理系统。13.一种物件,包括:一个机器可判读之媒体,具有指令当由一个处理器执行时,使得:根据一与图形图框之暗参考像素有关的补偿値,调整一暗图框至少一部分,以获得一调整的暗图框部分,已从该相同的影像侦测器中,获得该暗图框和该图形图框;以及从该图形图框一相对应的部分中,消除该调整的暗图框部分,以获得一校正的图形图框。14.如申请专利范围第13项之物件,更进一步包括:可移除非挥发性储存装置,其中该机器可判读媒体具有更进一步的指令,当该处理器执行该等指令时,更进一步使得产生该等补偿値,其与该图形图框中该等暗参考像素的一加总对该暗图框中相对应像素的一加总之比率有关。图式简单说明:第一图提出本发明一个体系之一个架构;第二图例证说明第一图该架构中执行之一连串的操作;第三图例证说明根据本发明另一个体系、获得一调整暗图框之技艺;第四图例证说明根据本发明又另一个体系、获得一调整暗图框之技艺;第五图例证说明根据本发明一个体系、获得调整影片图框之技艺;及第六图例证说明作为本发明另一个体系、一影像处理系统之方块图。
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