| 发明名称 | 铝或铝合金溅镀靶 | ||
| 摘要 | 为了提供高纯度铝或铝合金溅镀靶，其控制突然的颗粒产生，此基于发现：在高纯度铝(合金)溅镀靶中的夹杂物(特别是氧化物)是造成颗粒产生的主要因素，此外，相对粗糙地分布于靶中的石墨一氧化铝复合夹杂物导致形成的颗粒数目突然增加，在此靶中的氧含量是限制在少于 5百万分之一部分(ppm)，且从上述靶表面进行之超音波隙缝侦测中，相对应于直径为0.5公厘或更大的平底孔洞之指示数目设定为少于每平方公分0.014。 | ||
| 申请公布号 | TW425434 | 申请公布日期 | 2001.03.11 |
| 申请号 | TW086111557 | 申请日期 | 1997.08.07 |
| 申请人 | 能源股份有限公司 | 发明人 | 福世 秀秋;泽村一郎;冈部岳夫;大桥建夫;永泽俊 |
| 分类号 | C23C14/14 | 主分类号 | C23C14/14 |
| 代理机构 | 代理人 | 林镒珠 台北市长安东路二段一一二号九楼 | |
| 主权项 | 1.一种高纯度铝或高纯度铝合金溅镀靶,其特色为:靶中的氧含量是少于5百万分之一部分(ppm),并且从靶表面以超音波隙缝侦测,相对应于直径为0.5公厘或更大的平底孔洞之指示数目少于每平方公分0.014。图式简单说明:第一图是显示所用之靶A(比较例)及靶B(实例)在不同批次数时之颗粒数目的变化图。第二图是显示所用之靶C(比较例)及靶D(实例)在不同批次数时之颗粒数目的变化图。 | ||
| 地址 | 日本 | ||