ＥＵＶ光罩基底用基板表面之平滑方法及使用该方法所得之ＥＵＶ光罩基底

摘要

本发明提供EUV光罩基底用基板表面之平滑方法，该表面具有诸如坑或刮痕之凹缺陷。本发明系关于用于EUV微影之反射式光罩基底用基板表面之平滑方法，其包含将含有聚矽氮烷化合物之溶液涂敷于具有凹缺陷之基板表面，且加热及硬化所涂敷之溶液以形成氧化矽涂层(包含SiO#sB!2#eB!作为主骨干之涂层)，藉此平滑具有凹缺陷之基板表面。