发明名称 清洗精密元件之装置
摘要 一种清洗装置,用于清洗敏感性元件,像是用于碟片驱动器及半导体工业。本发明之清洗装置系包括一安装于一手柄上之黏着尖端。该黏着尖端系以固定或旋转方式安装在该手柄上,以及更进一步包括一黏性薄膜缠绕于该手柄或形成一更顺从或更弹性之表面。该黏性薄膜较佳地系为一低残渣、低排气材料,该材料可以轻易地清除精密元件表面上之微粒而不污染该元件。
申请公布号 TW423999 申请公布日期 2001.03.01
申请号 TW087112559 申请日期 1998.07.30
申请人 万国商业机器公司 发明人 罗伯布鲁斯普林;罗纳德李威维
分类号 B08B11/00 主分类号 B08B11/00
代理机构 代理人 陈长文 台北巿敦化北路二○一号七楼
主权项 1.一种清洗装置,系包括:一手柄;一黏着尖端,系配置于该手柄之一端,该黏着尖端更包括一黏着剂,该黏着剂具有低残渣及低排气特性,以使于该清洗装置适用于碟片驱动器元件。2.如申请专利范围第1项之清洗装置,其中该黏着尖端系固定于该手柄。3.如申请专利范围第1项之清洗装置,其中该黏着尖端系以旋转方式安装于该手柄。4.如申请专利范围第1项之清洗装置,其中该手柄系用坚质材料构成。5.如申请专利范围第1项之清洗装置,其中该手柄系用挠性材料构成。6.如申请专利范围第1项之清洗装置,其中该黏着剂系更包括一缠绕于手柄末端之黏性薄膜。7.如申请专利范围第1项之清洗装置,其中该黏着尖端系以液态黏着剂涂施于该手柄之一端,而后使该黏着剂凝固。8.如申请专利范围第1项之清洗装置,其中该黏着尖端系更包括一在具有形状之表面上涂施的黏着剂。9.如申请专利范围第8项之清洗装置,其中该具有形状之表面系具有可挠性。10.如申请专利范围第8项之清洗装置,其中该具有形状之表面系坚硬表面。11.如申请专利范围第8项之清洗装置,其中该黏性薄膜系更包括一低排气材料。12.如申请专利范围第1项之清洗装置,其中该黏着尖端之表面系呈交叉连接状。13.如申请专利范围第12项之清洗装置,其中该黏着尖端系由一涂有易撕介质之衬里密封。14.如申请专利范围第13项之清洗装置,其中该黏着剂系具有一低于0.5%之有机蒸发排气率。15.如申请专利范围第13项之清洗装置,其中该易撕介质系可自由传递矽氧烷。图式简单说明:第一图a系为本发明清洗装置透视图;第一图b系为沿第一图a中线段A-A'截取之本发明清洗装置截面图;第二图a系为本发明清洗装置第二具体实施例透视图;第二图b系为本发明清洗装置第二具体实施例侧视图;第三图a系为本发明清洗装置第三具体实施例透视图;第三图b系为本发明清洗装置第三具体实施例侧视图;第四图系为本发明清洗装置使用之图说,该清洗装置系用于清洗一碟片驱动器系统之音圈马达总成;以及第五图系为本发明清洗装置制造步骤之流程图。
地址 美国