| 摘要 |
포토레지스트 두께들에 따라, 라이팅 빔(writing beam)들의 전달되는 도즈(dose)를 변화시키기 위한 프로세서들을 이용하는 멀티-빔 패턴 생성기들, 및 관련 방법들이 개시된다. 패턴 생성기는, 라이팅 빔들에 대해 민감한 포토레지스트를 갖는 기판 위에 패턴을 라이팅할 수 있다. 패턴은, 라이팅 빔들이 라이팅 픽셀 위치(writing pixel location)들에서 패턴의 적어도 일부를 라이팅하는 개개의 라이팅 사이클(writing cycle)들에서 라이팅될(written) 수 있다. 패턴 생성기의 빔 액츄에이터(beam actuator)는, 각각의 라이팅 사이클 동안 개개의 픽셀 도즈들을 전달하기 위해 라이팅 픽셀들에 라이팅 빔들을 독립적으로 지향시킬 수 있다. 전달되는 픽셀 도즈들은, 액츄에이터 드웰 시간들(dwell times), 방출되는 펄스 지속기간, 방출되는 펄스 주파수, 및 방출되는 펄스 강도(intensity) 중 하나 또는 그 초과를 이용하는 하나 또는 그 초과의 접근법들에 따라, 다양한 라이팅 픽셀 위치들에서의 포토레지스트의 두께에 따라 조정될 수 있다. 이러한 방식으로, 가변적인 포토레지스트 두께들을 갖는 기판들에 대한 부가적인 치수 제어(dimensional control)가 제공된다. |
