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发明名称 METHOD AND APPRARATUS FOR IMPROVED RETENTION OF SEMICONDUCTOR WAFER WITHIN A SEMICONDUCTOR WAFER PROCESSING SYSTEM
摘要
申请公布号 KR20010013472(A) 申请公布日期 2001.02.26
申请号 KR19997011476 申请日期 1999.12.06
申请人 null, null 发明人 하우스만,길버트
分类号 B23Q3/15;B65G49/07;H01L21/683 主分类号 B23Q3/15
代理机构 代理人
主权项
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