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经营范围
发明名称
METHOD OF OXIDATION OF SEMICONDUCTOR WAFERS IN A RAPID THERMAL PROCESSING (RTP) SYSTEM
摘要
申请公布号
KR20010015773(A)
申请公布日期
2001.02.26
申请号
KR1020007004110
申请日期
2000.04.17
申请人
发明人
分类号
H01L21/316
主分类号
H01L21/316
代理机构
代理人
主权项
地址
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