发明名称 芳香族羧酸之制造方法及装置
摘要 本发明之目的,在于制造高品质的芳香族羧酸,是在含低级脂肪族羧酸的反应溶剂内,令烷基苯与含分子氧的气体接触,进行液相氧化,以制造对苯二甲酸等芳香族羧酸之际,不会增加反应溶剂的分解,又能避免爆炸的危险。本发明芳香族羧酸之制造方法,是在含低级脂肪族羧酸的溶剂内,令烷基苯与含分子氧的气体接触,进行液相氧化,以制造芳香族羧酸之方法中,将烷基苯和溶剂导入反应器1内,令含分子氧的气体,即含有浓度比空气高的分子氧之高浓度含氧气体,供应至反应器1,再从反应器1取出的排气当中,以除去凝结成份所得排气之一部份,循环到反应器1的液相部进行反应。
申请公布号 TW422832 申请公布日期 2001.02.21
申请号 TW084103385 申请日期 1995.04.08
申请人 三井化学股份有限公司 发明人 村重宪生;冈本悦郎;铃木史丈
分类号 C07C51/215 主分类号 C07C51/215
代理机构 代理人 何金涂 台北巿大安区敦化南路二段七十七号八楼
主权项 1.一种芳香族羧酸之制造方法,系在含低级脂肪族羧酸的溶剂中,令烷基苯与含分子氧的气体接触,加以液相氧化,以制造芳香族羧酸,其特征为:将烷基苯和溶剂导入反应器1内;将含分子氧之浓度较空气为高的高浓度含氧气体,做为含分子氧之气体,供应至反应器1;将从反应器1取出的排气之一部份,循环至反应器1的液相部,进行反应者。2.如申请专利范围第1项之方法,其中使用含分子氧的浓度为23-100容量%之气体,做为高浓度含氧气体者。3.如申请专利范围第1项之方法,其中芳香族羧酸系对苯二甲酸者。4.一种芳香族羧酸之制造方法,系在含低级脂肪族羧酸的溶剂中,令烷基苯与含分子氧的气体接触,加以液相氧化,以制造芳香族羧酸,其特征为:将烷基苯和溶剂导入反应器1中;将含分子氧之浓度较空气为高的高浓度含氧气体,做为含分子氧之气体,供应至反应器1;将从反应器1取出的排气除去凝结性成份所得排气的一部份,循环至反应器1的液相部进行反应者。5.如申请专利范围第4项之方法,其中使用含分子氧的浓度为23-100容量%之气体,做为高浓度含氧气体者。6.如申请专利范围第4项之方法,其中将排气循环至离反应器液相部静止液面有静止液深的3/4上方位置者。7.如申请专利范围第4项之方法,其中芳香族羧酸系对苯二甲酸者。8.一种芳香族羧酸之制法,系在含低级脂肪族羧酸的溶剂中,令烷基苯与含分子氧的气体接触,加以液相氧化,以制造芳香族羧酸,其特征为:将烷基苯和溶剂导入反应器1中;将含分子氧的浓度高于空气的高浓度含氧气体,与从反应器1取出的排气混合成混合气体,做为含分子氧的气体,供应至反应器1,进行反应者。9.如申请专利范围第8项之方法,其中使用含分子氧的浓度为23-100容量%之气体,做为高浓度含氧气体者。10.如申请专利范围第8项之方法,其中使用排除凝结性成份所得的排气和高浓度含氧气体之混合气体,做为混合气体者。11.如申请专利范围第8项之方法,其中芳香族羧酸系对苯二甲酸者。12.一种芳香族羧酸之制造装置,包括:反应器1,系令烷基苯与含分子氧的气体,在含低级脂肪族羧酸溶剂中接触,加以液相氧化;导入管路6,系将烷基苯和溶剂导入该反应器1内;凝结器18,系从该反应器1排出的排气中,除去凝结性成份;气体循环系管路8,系将在该凝结器18除去凝结性成份所得排气,循环至反应器1之液相部;以及高浓度含氧气体供应管路3,系将含分子氧的浓度高于空气的高浓度含氧气体,供应至反应器1者。13.一种芳香族羧酸之制造装置,包括:反应器1,系令烷基苯与含分子氧的气体,在含低级脂肪族羧酸溶剂中接触,加以液相氧化;导入管路6,系将烷基苯和溶剂导入该反应器1内;气体循环系管路8,系将从该反应器1排出的排气,循环至反应器1的液相部;以及气体混合机构,系将含分子氧的浓度高于空气的高浓度含氧气体,供应至该气体循环系管路8,与排气混合者。14.如申请专利范围第13项之装置,其中气体循环系管路8具有凝结器18,可从排气除去凝结性成份者。图式简单说明:第一图为芳香族羧酸制造装置一实施例之系统图,将高浓度含氧气体和排气,分别供应至反应器;第二图为芳香族羧酸制造装置另一实施例之系统图,将高浓度含氧气体和排气,预先混合后供应至反应器。
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