| 主权项 |
1.一种基板处理装置,系组装于对以主搬运装置搬运之基板进行多项处理之处理系统中之处理装置,其特征具备:对基板施以不同之特定处理之第1及第2处理单元;利用上述主搬运装置,将基板搬入上述第1处理单元之基板搬入口;将处理完毕后之基板搬出外面之基板搬出口;将被搬入之基板由上述第1处理部搬运至第2处理部,并将基板由基板搬运至可由基板搬出口之位置之搬运机构;以及回应上述主搬运装置到达对应于上述基板搬出口相对应位置之定时,控制上述搬运机构之基板搬运状态之控制装置。2.如申请专利范围第1项之基板处理装置,其中该装置具有将基板由上述第1处理部搬运至第2处理部之第1搬运臂,以及将上述第2处理部处理完毕之基板搬运之第2搬运臂;在主搬运装置在特定时间内未到达上述基板搬出口相对应之位置时,上述控制装置使基板在上述第2搬运臂上或第1搬运臂上排队等待。3.如申请专利范围第1项之基板处理装置,其中另具备暂时令基板排队等待之至少一个基板待机部,上述控制装置在上述主搬运装置在特定时间内未到达上述基板搬出口相对应之位置时,使基板在上述基板待机部排队等待。4.如申请专利范围第3项之基板处理装置,其中上述基板待机部系设置于上述第2处理单元之后方,以及上述第1处理单元与第2处理单元之中之至少一侧。5.如申请专利范围第1项之基板处理装置,其中上述搬运机构具备一将基板由第1处理部搬运至第2处理部之第1搬运臂与用于搬运在上述第2处理部处理完毕之基板之第2搬运臂;当上述主搬运装置未在特定时间内到达上述基板搬出口相对应之位置时上述控制装置令基板在上述第2搬运臂上排队等待,而将第1搬运臂上之基板搬入上述第2处理部。6.一种基板处理装置,系在由主搬运装置搬运之基板上涂覆抗蚀剂并乾燥之,其特征为具备:在基板上涂覆抗蚀剂之抗蚀剂涂覆单元;将以上述抗蚀剂涂覆单涂覆有抗蚀剂之基板以实质上非加热状态乾燥之乾燥处理单元;将由上述主搬运装置搬运之基板搬入涂覆处理单元之基板搬入口;将处理完毕后之基板搬出外面之基板搬出口;将搬入之基板由上述抗蚀剂涂覆单元搬运至乾燥处理单元,再由上述基板搬出口搬运至可搬出之位置之单元间搬运机构;以及上述主搬运装置回应到达上述基板搬出口相对应之位置之定时,控制上述单元间搬送机构之基板搬运状态。7.如申请专利范围第6项之基板处理装置,其中另具备在上述乾燥处理单元之乾燥处理后,清除基板周边部所附着之抗蚀剂之周边抗蚀剂清除单元。8.如申请专利范围第6或7项之基板处理装置,其中上述单元间搬运机构具有由上述抗蚀剂涂覆单元搬运至乾燥处理单元之第1搬运臂与搬运在上述乾燥处理单元乾燥完毕之基板之第2搬运臂;当上述搬运装置在特定时间内未到达上述基板搬出口相对应位置时,上述控制装置令基板在上述第2搬运臂上排队等待。9.如申请专利范围第6或7项之基板处理装置,其中另具备暂时使基板排队等待之至少一个基板待机部,在上述主搬运装置在特定时间内未到达上述基板搬出口之位置时,上述控制装置使在乾燥处理单元乾燥过之基板在上述基板待机部排队等待。10.如申请专利范围第9项之基板处理装置,其中上述基板待机部设置于乾燥处理单元之后侧。11.如申请专利范围第6项之基板处理装置,其中上述乾燥处理单元具备减压乾燥机构,用于以减压状态乾燥涂覆有抗蚀剂之基板。图式简单说明:第一图表示适用于本发明之LCD之滤色器之涂覆,显影处理系统之平面图。第二图表示并设有抗蚀剂涂覆处理单元(CT),乾燥处理单元(VD)以及周边清除单元(ER)之涂覆系单元部之概略平面图。第三图表示第二图之涂覆系单元部之概略侧面图。第四图为与本实施例有关之涂覆/显影处理系统之区块图。第五图表示与涂覆有关之单元控制器之子程式之流程图。第六图表示并设有抗蚀剂涂覆处理单元(CT),乾燥处理单元(VD)以及周边清除单元(ER)之涂覆系单元部之其他例之概略平面图。 |
