| 主权项 |
1.一种可于硷性水溶液中显影的负型光阻组成物,其包括可形成薄膜之可溶于硷性水溶液、具有硷溶性基团的聚合物,具有烯丙醇结构的化合物及光酸产生剂,该光酸产生剂一吸收像形成辐射线即分解,造成该具有烯丙醇结构的化合物变成该硷溶性基团的保护基。2.根据申请专利范围第1项之光阻组成物,其中该硷溶性聚合物包括至少一衍生自选自一群包括丙烯酸,甲基丙烯酸,甲叉丁二酸酸,苯甲酸乙烯酯或双环[2.2.1]庚-5-烯-2-羧酸,乙烯基酚,苯乙烯及其衍生物之化合物的单元。3.根据申请专利范围第1项之光阻组成物,其中该硷溶性聚合物包括一或多种选自一群包括内醯胺环,亚醯胺环及酸酐的弱硷溶性基团。4.根据申请专利范围第1项之光阻组成物,其中该硷溶性聚合物包括脂族烃类部分或多环脂族烃类部分。5.根据申请专利范围第4项之光阻组成物,其中该多环脂族烃类部分含有包括选自一群金刚烷基,原冰片基及双环[2.2.2]辛基之结构。6.根据申请专利范围第5项之光阻组成物,其中该多环脂族烃类部分包含至少一烃基或酮基,或二者。7.根据申请专利范围第1项之光阻组成物,其中该具有烯丙醇结构之化合物包含下式(I)(II)所示的结构:其中X代表氢原子或本身具有另一丙烯醇结构的直链,支链或环状烷基,而n代表整数2-7;其中X如上所述,而Y代表具有至少二个碳原子的直链,支链或环状烷基,其本身可以具有另一丙烯醇结构,而且也可以具有另一取代基。8.根据申请专利范围第1项之光阻组成物,其中该具有烯丙醇结构之化合物包含脂环结构或多环脂族结构。9.根据申请专利范围第1项之光阻组成物,其中该具有烯丙醇结构的化合物除了包含烯丙醇分子部分外,另包含至少一羟基,酮基,或烷基氧羰基。10.根据申请专利范围第1项之光阻组成物,其于影像形成照射光源波长的吸光率为1.75或更低。11.根据申请专利范围第1项之光阻组成物,其包含至少一选自一群包括乳酸乙脂,甲基戊基酮,甲基-3-甲氧基丙酸脂,乙基-3-乙氧基丙酸脂及丙二醇甲基醚乙酸脂的溶剂。12.根据申请专利范围第11项之光阻组成物,其进一步包含选自一群包括乙酸丁酯,-丁内醯胺及丙二醇甲基醚的溶剂。13.一种形成光阻图案之方法,其包括下列步骤:将申请专利范围第1到12项所述之光阻组成物涂在目标基材上,将所形成的光阻薄膜选择性照射能使该光阻组成物中之光酸产生剂分解的影像形成辐射线,并利用硷性水溶液显影经照光之光阻薄膜。 |
