发明名称 正光阻剂组成物
摘要 一种正型光阻剂组成物,其具备优异的解析度以及良好的光阻剂性能,例如敏感度、聚焦景深和轮廓,其组成包括酚醛树脂、辐射敏感性二叠氮化合物和如化学式(I)所示之硫__酮化合物:CC(I)其中R1,R2,R3,R4,R5,R6,R7和R8各自独立,且代表氢原子、卤素原子、烷基、烷氧基、芳基、羧基或烷氧羰基。
申请公布号 TW422941 申请公布日期 2001.02.21
申请号 TW088108904 申请日期 1999.05.29
申请人 住友化学工业股份有限公司 发明人 上谷保则;森马洋;高田佳幸
分类号 G03F7/038 主分类号 G03F7/038
代理机构 代理人 何金涂 台北巿大安区敦化南路二段七十七号八楼
主权项 1.一种正型光阻剂组成物,其包括酚醛树脂、辐射敏感性二叠氮化合物和如式(I)所示之硫口山酮化合物:其中R1,R2,R3,R4,R5,R6,R7和R8各自独立,且代表氢原子、卤素原子、烷基、烷氧基、芳基、羧基或烷氧羰基。2.如申请专利范围第1项之正型光阻剂组成物,其中相对于不包含未反应苯酚化合物之酚醛树脂总量基底,分子量在1,000以下酚醛树脂成分之含量在25%以下,当含量是以胶透层析术之图案面积表示时,其中图案面积系代表254nm紫外线侦检器测得之値,然后之聚苯乙烯为标准液得到其分子量。3.如申请专利范围第1项之正型光阻剂组成物,其进一步的组成是时,相对于酚醛树脂和低分子量硷溶性苯酚化合物总量基底,低分子量硷溶性苯酚化合物之含量系介于3-40重量%之间。4.如申请专利范围第1项之正型光阻剂组成物,其中在式(I)中之硫口山酮化合物系从下述群中选出:硫口山酮、1-氯硫口山酮、2-氯硫口山酮、3-氯硫口山酮、4-氯硫口山酮、1-甲基硫口山酮、2-甲基硫口山酮、3-甲基硫口山酮、4-甲基硫口山酮、1-乙基硫口山酮、2-乙基硫口山酮、3-乙基硫口山桐、4-乙基硫口山酮、1-异丙基硫口山酮、2-异丙基硫口山酮、3-异丙基硫口山酮、4-异丙基硫口山酮、甲基硫口山酮-1-羧酸酯和甲基7-甲基硫口山酮-3-羧酸酯。5.如申请专利范围第1项或第3项之正型光阻剂组成物,其中相对于100份酚醛树脂和低分子量硷溶性苯酚化合物总量基底,硫口山酮化合物之含量系介于约0.01-5重量份之间。
地址 日本