发明名称 光资讯记录媒体
摘要 可得到重复读写也不会劣化的高密光记录媒体。在基板l之上面,形成能变化光之强度或强度分布的玻璃薄膜2,而其上部设置记录膜,保护膜,反射膜的光记录媒体。
申请公布号 TW422974 申请公布日期 2001.02.21
申请号 TW087106386 申请日期 1998.04.24
申请人 日立制作所股份有限公司 发明人 山本浩贵;内藤孝;滑川孝;铃木康隆;高桥 研;寺尾元康;新谷俊通
分类号 G11B7/24 主分类号 G11B7/24
代理机构 代理人 林志刚 台北巿南京东路二段一二五号七楼
主权项 1.一种光资讯记录媒体,系属于至少具备基板,及记录设于该基板上之资讯的记录层,及设于该基板与该记录层之间的玻璃层,照射光并再生资讯的光资讯记录媒体,其特征为:该玻璃层系所照射之光的强度分布与透过之光的强度分布呈非线形地变化的玻璃。2.如申请专利范围第1项所述之光资讯记录媒体,其中,上述记录层为记录资讯的凹坑图案者。3.如申请专利范围第1项所述之光资讯记录媒体,其中,上述记录层为为介经光能来记录资讯者。4.一种光资讯记录媒体,系属于至少具备基板,及记录设于该基板上之资讯的记录层,及反射设于该记录层上之光的反射膜,照射光并再生资讯的光资讯记录媒体,其特征为:该基板系对于被照射之光强度的增加使光透过率非线形地增加的玻璃。5.如申请专利范围第1项或第4项所述之光资讯记录媒体,其中,上述玻璃系含有过渡金属元素,稀土类金属元素中之至少一种以上的玻璃者。6.如申请专利范围第5项所述之光资讯记录媒体,其中,上述过渡金属元素,稀土类金属元素系由Ti,V,Cr,Mn,Fe,Co,Ni,Nd,Ce,Pr,Sm,Eu,Tb,Ho,Er,Fm中所选择之至少一种以上之元素者。7.如申请专利范围第6项所述之光资讯记录媒体,其中,上述过渡金属元素,稀土类金属元素系玻璃为膜时,对于整体玻璃以氧化物换算含有20重量%以上,90重量%以下。玻璃为基板时,对于整体玻璃以氧化物换算含有0.1重量%以上,29重量%以下者。8.如申请专利范围第1项所述之光资讯记录媒体,其中,上述玻璃系以氧化物换算含有SiO2:6-80重量%,R2O:0-20重量%(R=硷金属元素),B2O3:0-30重量%,CoO:20-90重量%者。9.如申请专利范围第4项所述之光资讯记录媒体,其中,上述玻璃系将钻氧化物以CoO换算含有0.1-29重量%之玻璃者。10.一种资讯记录媒体,系属于具备:形成有记录资讯之记录层的基板,及设于该基板上,对于被照射之光强度的增加使光透过率非线形地增加的超解像层的资讯记录媒体,其特征为:上述资讯记录媒体之104次之重复记录后的输出保持率为90%以上者。11.一种资讯记录媒体,系属于具备:基板记录设于该基板上之资讯的记录层的资讯记录媒体,其特征为:上述资讯记录媒体系被记录之讯号的频率8MHz之输出降低为1KHz的输出之一30dB以内,且104次重复记录后之输出保持率为90%以上者。12.一种玻璃,其特征为:以氧化物换算含有SiO2:6-80重量%,R2O:0-20重量%(R=硷金属元素),B2O3:0-30重量%,CoO:20-90重量%者。13.一种玻璃薄膜,其特征为:以CoO换算钴氧化物含有0.1-29重量%者。图式简单说明:第一图系表示以本发明所制作之RAM碟片之剖面的模式图。第二图系表示以本发明所制作之模拟样品之剖面的模式图。第三图系表示以本发明所制作之玻璃薄膜之透过率的波长依存性。第四图系表示以本发明所制作之玻璃薄膜之CO的XPS。第五图系表示对于CoO含有量之680nm的光透过率。第六图系表示成膜在靶组成之玻璃基板上之玻璃薄膜的SIMS。第七图系表示以本发明所制作之ROM碟片之剖面的模式图。第八图系表示从第七图之ROM碟片所得到之输出的读出频率依存性。第九图系表示对于从第一图之RAM碟片所得到之记录标志长度的输出变化。第十图系表示对于第一图之RAM碟片所得到之重复动作的输出依存性。第十一图系表示对于从第一图之RAM碟片之CoO含有量的读出输出之变化。第十二图系表示以本发明所制作之RAM碟片之剖面的模式图。第十三图系表示以本发明所制作之ROM碟片之剖面的模式图。第十四图系表示形成本发明之玻璃膜时,及未形成时之雷射束径的变化。第十五图系表示使用本发明之光碟之装置的构成图。
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