发明名称 |
ELECTRIC SUPPLY UNIT FOR PLASMA INSTALLATIONS |
摘要 |
Beschrieben wird elektrische Versorgungseinheit für Plasmaanlagen, wie Plasma-Bearbeitungs- bzw. Beschichtungsvorrichtungen, bei denen es zum Auftreten von Lichtbögen bzw. Durchschlägen (Arcs) zwischen den Elektroden kommen kann, mit einer Gleichspannungs- bzw. Gleichstromquelle (1), deren Ausgangsanschlüsse über wenigstens eine Induktivität und einen Leistungsschalter (V3) mit den Elektroden der Plasmaanlage (2) verbunden sind, und einer Schaltung (3) zum Erkennen von Lichtbögen bzw. Durchschlägen, die beim Auftreten eines Lichtbogens bzw. Durchschlags den Schalter derart betätigt, dass keine elektrische Energie mehr an die Elektroden angelegt wird. Die Erfindung zeichnet sich dadurch aus, dass die Induktivität(en) (L1, L2) jeweils mit einer Freilaufdiode (V1, V2) beschaltet ist (sind), und dass der Schalter ein Serienschalter (V3) ist.
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申请公布号 |
WO0113402(A1) |
申请公布日期 |
2001.02.22 |
申请号 |
WO2000DE02741 |
申请日期 |
2000.08.13 |
申请人 |
HUETTINGER ELEKTRONIK GMBH & CO. KG;ZAEHRINGER, GERHARD;WIEDEMUTH, PETER;RETTICH, THOMAS |
发明人 |
ZAEHRINGER, GERHARD;WIEDEMUTH, PETER;RETTICH, THOMAS |
分类号 |
H01J37/32;(IPC1-7):H01J37/32 |
主分类号 |
H01J37/32 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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