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发明名称 APPARATUS FOR REMOVING IMPURITIES ON A PHOTO MASK
摘要 <p>본 발명은 광학 마스크 상에 부착된 입자성 불순물을 제거하기 위한 장치에 관한 것으로, 구동수단, 정전기력이 발생되어 광학 마스크의 입자성 불순물을 제거하기 위한 정전기 대전 물질판 및 구동수단에 의해 정전기 대전 물질판과 선택적으로 마찰되는 것에 의해 정전기 대전 물질판에 정전기를 유도하는 정전기 유도 물질을 포함하는 것에 의해, 광학 마스크의 물리적인 손상을 억제하면서 불순물을 제거할 수 있다.</p>
申请公布号 KR100284100(B1) 申请公布日期 2001.02.15
申请号 KR19990005510 申请日期 1999.02.19
申请人 null, null 发明人 이병철
分类号 H01L21/027 主分类号 H01L21/027
代理机构 代理人
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