发明名称 SEMICONDUCTOR DEVICE
摘要 <p>실리콘 기판(1)상에 형성된 액세스 트랜지스터 A1의 드레인 영역은 n, n형 드레인 영역(6a), (8a)이고, 소스 영역은 n, n형 소스 영역(6b), (8b)이다. 드라이버 트랜지스터의 소스 영역은 n, n형 소스 영역(6c), (10)이고, 드레인 영역은 n, n형 드레인 영역(6b), (8b)이다. n형 소스 영역(10)은 n형 드레인 영역(8b)보다도 깊게 형성되어 있다. 이것에 의해, 제조 코스트의 상승이 억제되고, 스태틱 노이즈 마진의 향상이 도모되는 반도체 장치가 얻어진다.</p>
申请公布号 KR100282755(B1) 申请公布日期 2001.02.15
申请号 KR19990004334 申请日期 1999.02.08
申请人 null, null;null, null 发明人 이시가끼요시유끼;후지이야스히로
分类号 H01L21/336;H01L21/8244;H01L27/11 主分类号 H01L21/336
代理机构 代理人
主权项
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