| 主权项 |
1.一种近接透镜元件PLE,其具有入射光束所穿过的 两个表面,且其中一表面大致上为平直的而第二表 面具有对光束来说为光学地平直出口区域。2.如 申请专利范围第1项之近接透镜元件PLE,其包括进 入实心浸没透镜元件两表面其中之一但除了与表 面正交之外的折射光线的折射补偿。3.如申请专 利范围第2项之近接透镜元件PLE,其中光束大致上 沿着近接透镜元件的光学轴传播,此近接透镜元件 包括: 陡度折射率GRIN材料,其在靠近实心浸没透镜元件 的边缘比起在光学轴的附近具有较低的折射率。4 .如申请专利范围第3项之近接透镜元件PLE,其中折 射率为分级的以产生一相反的球状波前分布。5. 如申请专利范围第2项之近接透镜元件PLE,其包括: 一绕射浮雕图样,其为由两表面其中之一所界定。 6.如申请专利范围第1项之近接透镜元件PLE,其更包 括: 一光调制器,其装置于表面上并可相应于一控制信 号的运用而选择地接受光。7.如申请专利范围第1 项之近接透镜元件PLE,其与第二透镜元件相组合, 而此第二透镜元件则包括: 一透镜主体,其界定了至少一平直表面的排列是与 实心浸没透镜的平直表面之一平行。8.如申请专 利范围第1项之近接透镜元件PLE,其中入射光束是 预先聚合以聚焦于一点或是就在出口区域之外;其 近接透镜元件包括补偿造成入射光束穿过近接透 镜元件至出口区域好像穿过一半球的实心浸没透 镜一样。9.一种修正光束的方法,其中光束具有一 轴并且包含大量大致上指向平行于光束轴的光线; 此方法包括以下步骤: 从第一介质接收光束,而在其中之大致上平直的介 面进入第二介质; 修正是藉由不同数量、方向穿过被光束中不同光 线所穿过的第二介质; 从第二介质接收修正的光束,而经由第二介质之大 致上平直的介面进入目标介质。10.如申请专利范 围第9项之方法,其中修正的步骤更包括: 以与光束轴间距离的函数来连续地改变修正的数 量。11.如申请里利范围第10项之方法,其中连续改 变的步骤使用产生一相反球状波前修正之距离的 函数。12.如申请专利范围第10项之方法,其中连续 改变的步骤是执行在接收光束的介面上。13.如申 请专利范围第10项之方法,其中连续改变的步骤是 在第二介质中执行。14.如申请专利范围第10项之 方法,其中连续改变的步骤更包括: 将第一群光线聚合在第一焦点;以及 将第二群光线聚合在第二焦点。15.如申请专利范 围第14项之方法,其更包括; 交替地对第一群光线用此方法限制操作,而对第二 群光线则在不同时间操作。16.一种光学磁碟机,其 包括一具有入射光束所穿过的两个表面的近接透 镜元件,且其中一表面大致上为平直的而第二表面 具有对光束来说为光学地平直出口区域。17.如申 请专利范围第16项之光学磁碟机,其中之近接透镜 元件PLE包括进入实心浸没透镜元件两表面其中之 一但除了与表面正交之外的折射光线的折射补偿 。18.如申请专利范围第17项之光学磁碟机,其中光 束大致上沿着近接透镜元件的光学轴传播,此近接 透镜元件包括: 陡度折射率GRIN材料,其在靠近近接透镜元件的边 缘比起在光学轴的附近具有较低的折射率。19.如 申请专利范围第18项之光学磁碟机,其中折射率为 分级的以产生一相反的球状波前分布。20.如申请 专利范围第18项之光学磁碟机,其中之近接透镜元 件包括: 一绕射浮雕图样,其为由两表面其中之一所界定。 21.如申请专利范围第17项之光学磁碟机,其中之近 接透镜元件更包括: 一光调制器,其装置于表面上并可相应于一控制信 号的运用而选择地接受光。22.如申请专利范围第 17项之光学磁碟机,其更包括一第二透镜元件,而此 第二透镜元件则包括: 一透镜主体,其界定了至少一平直表面的排列是与 近接透镜元件的平直表面之一平行。图式简单说 明: 第一图为传统的简单光学系统之示意图; 第二图为增加了实心浸没透镜SIL的传统简单光学 系统的示意图; 第三图为加入了平面的近接透镜元件PLE之光学系 统的示意图; 第四图为在陡度折射率GRIN补偿平面的近接透镜元 件PLE之折射率图表; 第五图为绕射补偿平面的近接透镜元件PLE之侧视 图; 第六图为一使用绕射补偿平面的近接透镜元件PLE 作为分光器之光学系统的示意图; 第七图为将平面的近接透镜元件PLE使用于一光学 数据储存磁碟机上的浮动磁头的示意图; 第八图为具有装置在顶面之空间调制器之平面的 近接透镜元件PLE的示意图。 |
