| 摘要 |
<p>Diese Erfindung betrifft Ätzlösungen zur Verwendung im Herstellungsprozess von integrierten Schaltungen, die Flusssäure und organische Lösungsmittel enthalten. Besonders sind die erfindungsgemässen Ätzlösungen zur selektiven Ätzung sowohl von dotierten Silikatschichten geeignet.</p> |
