发明名称 显示面的制造方法
摘要 一种滤色片点阵的显示面制造方法,包括:对形成于基板(1)上的第一颜料层(3,5)曝光,显影,形成第一颜料点阵(3a,5a);在基板及第一颜料点阵上形成第二颜料层(6)及其上的第二颜料点阵(6a)的工序,其特征在于:第二颜料点阵形成工序系将所述第二颜料层(6)中、处于前述第一颜料点阵(3a,5a)上的部分冲洗除去而进行;在基板(1)的整个表面上形成二氧化硅或氨基硅烷膜;前述二种颜料颗粒溶液至少一种中含有选自二氧化硅微粒,硅酸锂,及氧化铝微粒的粘结力调节剂。本发明可以简单的工序准确获得滤色片点阵。$#!
申请公布号 CN1061776C 申请公布日期 2001.02.07
申请号 CN95113144.3 申请日期 1995.12.26
申请人 东芝株式会社 发明人 松田秀三;伊藤武夫;中泽知子
分类号 H01J9/227 主分类号 H01J9/227
代理机构 上海专利商标事务所 代理人 刘立平
主权项 1.一种具有由第一及第二种颜料点阵(3a,5a,6a)形成的滤色片点阵的显示面制造方法,包括:在基板(1)上涂含第一种颜料颗粒的溶液,形成第一颜料层(3,5)的工序;对该第一颜料层(3,5)作点阵状曝光,显影,形成第一颜料点阵(3a,5a)的工序;将含第二种颜料颗粒的溶液涂布到前述基板及前述第一颜料点阵上,干燥,形成第二颜料层(6)的工序;对前述第二颜料层(6)构以图形,形成第二颜料点阵(6a)的工序,其特征在于:在形成上述第一颜料层之前,在前述基板(1)的整个表面上形成有由二氧化硅或氨基硅烷组成的膜;在前述基板(1)的整个表面上形成有由二氧化硅组成的膜时,上述第二种颜料层(6)上的点阵形成工序系将所述第二颜料层(6)中、处于前述第一颜料点阵(3a,5a)上的部分冲洗除去而进行,前述含第一颜料颗粒溶液与前述含第二颜料颗粒溶液的至少一种中含有选自硅酸锂及氧化铝微粒的粘结力调节剂;在前述基板(1)的整个表面上形成有由氨基硅烷组成的膜时,上述第二种颜料层(6)上的点阵形成工序系将所述第二颜料层(6)中、处于前述第一颜料点阵(3a,5a)上的部分冲洗除去而进行,前述含第一颜料颗粒溶液与前述含第二颜料颗粒溶液的至少一种中含有选自二氧化硅微粒的粘结力调节剂。
地址 日本神奈川县