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发明名称
Semiconductor processing method of forming a contact opening to a region adjacent a field isolation mass, and a semiconductor structure
摘要
申请公布号
US6184127(B2)
申请公布日期
2001.02.06
申请号
US09/243220
申请日期
1999.02.01
申请人
发明人
分类号
主分类号
代理机构
代理人
主权项
地址
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