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经营范围
发明名称
Method and structure for isolating semiconductor devices after transistor formation
摘要
申请公布号
US6184566(B2)
申请公布日期
2001.02.06
申请号
US09/150776
申请日期
1998.09.10
申请人
发明人
分类号
主分类号
代理机构
代理人
主权项
地址
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