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发明名称
Oxide etch process with high selectivity to nitride suitable for use on surfaces of uneven topography
摘要
申请公布号
US6184150(B2)
申请公布日期
2001.02.06
申请号
US08/960104
申请日期
1997.10.27
申请人
发明人
分类号
主分类号
代理机构
代理人
主权项
地址
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