发明名称 啶型唑烷类化合物
摘要 本发明提供一种下式(I)之新颖之啶型唑烷及其盐
申请公布号 TW420669 申请公布日期 2001.02.01
申请号 TW084102837 申请日期 1995.03.23
申请人 日产化学工业股份有限公司 发明人 小原义夫;铃木干夫;宫地伸英;加藤克浩;大土井启佑;小林彻也;鹿田谦一
分类号 C07D263/06;C07D277/04;A61K31/42;A61K31/425 主分类号 C07D263/06
代理机构 代理人 林志刚 台北巿南京东路二段一二五号七楼
主权项 1.一种下式(I)之啶型唑烷化合物或其盐, (其中X1系S; X2系S或O; Y系CR6R7(R6与R7各为氢原子,或R7与R4一起形成键结); Z系C1-C10烷基(该烷基可经最多三个C1-C7烷氧基所取 代),经取代之矽烷基,或-A-B(A系二价C1-C6饱和或C2-C6 不饱和烃基,其可经最多3个羟基,合氧基及C1-C7烷 基所取代,且B为 (其中Ra及Rb各为氢原子,C1-C7烷基,(该烷基可经羟基 或合氧基取代),卤原子,苯基,-基,-基, 喃基(该苯基,-基,-基,喃基可经甲基,甲 氧基,氧基,羟基,卤素与苯基所取代), Rc系氢原子,C1-C7烷基,C3-C7环烷基或羟甲基)。 R1,R2及R3各为氢原子; R4为氢原子或与R7一起形成键结; n为0。2.如申请专利范围第1项之式(I)啶型唑 烷化合物或其盐,其中: X1为S; Y为CR6R7(R6为氢原子,且R7系氢原子或与R4形成键结); R4为氢原子,或与R7形成键结;且 A为二价C1-C6饱和烃基,其可经羟基或合氧基所取代 。3.如申请专利范围第1项之式(I)啶型唑烷化 合物或其盐,其中: Y为-CH2-;且 R4为氢原子。4.如申请专利范围第1项之式(I)啶 型唑烷化合物或其盐,其中: Y为CHR7(R7与R4形成键结);且 R4与R7形成键结。5.如申请专利范围第1项之式(I) 啶型唑烷化合物或其盐,其中: A为 (其中m为由0至1, Rd及Re各为氢原子,且 Rf及Rg各为氢原子,羟基,或Rf及Rg一起形成合氧基。 6.如申请专利范围第1项之式(I)啶型唑烷化合 物或其盐,其中: A为7.如申请专利范围第1项之啶型唑烷化合物 或其盐,其系充作降血糖剂之活性剂。8.如申请专 利范围第1项之啶型唑烷化合物或其盐,其系 充作抗糖化剂之活性剂。9.一种用于预防及治疗 糖尿病或糖尿病并发症之医药组合物,其含有如申 请专利范围第1项之啶型唑烷化合物或其盐充 作活性剂。
地址 日本