| 主权项 |
1.一种基板乾燥方法,主要系在处理槽(3)内收容基 板(1),且使处理槽(3)内之洗净液(2)之液面一面对于 基板而相对的下降,一面对处理槽(3)内供给乾燥用 流体,以资使基板(1)之表面乾燥之方法,其特征为, 以液之状态的将乾燥用流体导入于处理槽(3)内,使 用喷咀喷雾于洗净液(2)面上者。2.如申请专利范 围第1项所述之基板乾燥方法,其中为了使乾燥用 流体雾化起见,实施惰性气体之吹喷者。3.如申请 专利范围第1项或第2项所述之基板乾燥方法,其中 以间歇的实施该乾燥用流体之导入于处理槽(3)者 。4.一种基板乾燥装置,主要系在处理槽(3)内收容 基板(1),且使处理槽(3)内之洗净液(2)之液面一面对 于基板而相对的下降,一面对处理槽(3)内供给乾燥 用流体,以资使基板(1)之表面乾燥之装置,其特征 为含有: 以液之状态的将乾燥用流体导入于处理槽(3)内,使 用喷咀喷雾于洗净液(2)面上之乾燥用流体供给机 构(4)(4a)(5)者。5.如申请专利范围第4项所述之基板 乾燥装置,其中再含有:接近于上述乾燥用流体供 给机构(5),为了使乾燥用流体雾化而实施惰性气体 之喷吹之喷吹机构(6)者。6.如申请专利范围第4项 或第5项所述之基板乾燥装置,其中再含有,用于控 制间歇的实施乾燥用流体之导入于处理槽(3)之乾 燥用流体供给机构(4a)之控制机构(8)者。7.一种基 板乾燥方法,主要系在处理槽(3)内收容基板(1),且 使处理槽(3)内之洗净液(2)之液面一面对于基板而 相对的下降,一面对于处理槽(3)内供给乾燥用流体 ,以资使基板(1)之表面乾燥之方法,其特征为: 使用载体气体而将液状之乾燥用流体运送至喷咀( 5)之喷出孔(5c),而从喷嘴(5)之喷出孔(5c)朝向洗净 液面上面,同时的喷出乾燥用流体及载体气体者。 8.一种基板乾燥装置,主要系在处理槽(3)内收容基 板(1),且使处理槽(3)内之洗净液(2)之液面一面对于 基板而相对的下降,一面对于处理槽(3)内供给乾燥 用流体,以资使基板(1)之表面乾燥之装置,其特征 为,含有: 使用载体气体而将液状之乾燥用流体运送至喷咀( 5)之喷出孔(5c),而从喷咀(5)之喷出孔(5c)朝向洗净 液面上面,同时的喷出乾燥用流体及载体流体之乾 燥用流体供给机构(5)(5a)(5b)(5c)者。9.如申请专利 范围第8项所述之基板乾燥装置,其中 在于为了将载体气体供给于喷咀(5)之第1供给管路 (5a)之中途部,连通了液状之乾燥用流体用之第2供 给管路(5b)者。10.如申请专利范围第8项所述之基 板乾燥装置,其中 该将载体气体供给于喷嘴(5)用之第1供给管路(Sa), 及将液状之乾燥用流体供给于喷嘴(5)用之第2供给 管路(5b)系互相独立的予以设置者。图式简单说明 : 第一图系表示本发明之基板乾燥装置之一实施态 样之概略斜视图 第二图系表示喷雾喷咀之构成之其他例之概略纵 断面 第三图系表示喷雾喷咀之构成之又一其他例之概 略纵断面图。 第四图系表示喷雾喷咀之构成之又一其他例之概 略纵断面图。 第五图系表示本发明之基板乾燥装置之其他实施 态样之概略斜视图。 第六图系表示本发明之基板乾燥装置之其他实施 态样之概略斜视图。 第七图系表示本发明之基板乾燥装置之其他实施 态样之概略斜视图。 第八图系表示本发明之基板乾燥装置之其他实施 态样之概略斜视图。 第九图系说明乾燥用流体之间歇导入高温氮气之 间歇喷吹之定序表。 第十图系表示本发明之基板乾燥装置之又一实施 态样之要部之概略图。 第十一图系表示本发明之基板乾燥装置之又一实 施态样之要部之概略图。 第十二图系表示本发明之基板乾燥装置之又一实 施态样之要部之概略图。 |
